분자빔 에피택시(MBE) 개요
MBE(Molecular Beam Epitaxy) 기술은 1950년대 진공증착 기술을 이용해 반도체 박막 소재를 제조하기 위해 개발됐다.초고진공 기술의 발전으로 기술의 응용이 반도체 과학 분야로 확대되고 있습니다.
반도체 재료 연구의 동기는 시스템 성능을 향상시킬 수 있는 새로운 장치에 대한 수요입니다.결과적으로 신소재 기술은 새로운 장비와 새로운 기술을 생산할 수 있습니다.MBE(분자선 에피택시)는 에피택시층(일반적으로 반도체) 성장을 위한 고진공 기술입니다.단결정 기판에 충돌하는 소스 원자 또는 분자의 열빔을 사용합니다.이 공정의 초고진공 특성으로 인해 새로 성장한 반도체 표면에 절연 재료를 현장에서 금속화하고 성장시켜 무공해 인터페이스를 만들 수 있습니다.
MBE 기술
분자빔 에피택시는 고진공 또는 초고진공(1 x 10-8Pa) 환경.분자빔 에피택시의 가장 중요한 측면은 낮은 증착 속도로, 이는 일반적으로 필름이 시간당 3000nm 미만의 속도로 에피택셜 성장할 수 있게 해줍니다.이러한 낮은 증착 속도에는 다른 증착 방법과 동일한 수준의 청결도를 달성하기 위해 충분히 높은 진공이 필요합니다.
위에서 설명한 초고진공을 충족시키기 위해 MBE 장치(Knudsen 셀)에는 냉각층이 있으며, 성장 챔버의 초고진공 환경은 액체 질소 순환 시스템을 사용하여 유지되어야 합니다.액체 질소는 장치의 내부 온도를 77켈빈(−196°C)까지 냉각시킵니다.저온 환경은 진공 중의 불순물 함량을 더욱 감소시키고 박막 증착을 위한 더 나은 조건을 제공할 수 있습니다.따라서 MBE 장비가 -196°C 액체질소를 지속적이고 안정적으로 공급하기 위해서는 전용 액체질소 냉각 순환 시스템이 필요합니다.
액체질소 냉각 순환 시스템
진공 액체질소 냉각 순환 시스템은 주로,
● 극저온 탱크
● 메인 및 분기 진공 자켓 파이프 / 진공 자켓 호스
● MBE 특수 상 분리기 및 진공 재킷 배기관
● 다양한 진공 재킷 밸브
● 기액 장벽
● 진공 재킷 필터
● 동적 진공 펌프 시스템
● 예냉 및 퍼지 재가열 시스템
HL Cryogenic Equipment Company는 MBE 액체 질소 냉각 시스템의 수요를 인지하고 MBE 기술을 위한 특수 MBE 액체 질소 냉각 시스템과 완전한 진공 단열재 세트를 성공적으로 개발하기 위해 기술 백본을 조직했습니다.ed많은 기업, 대학, 연구기관에서 사용되고 있는 배관 시스템입니다.
HL 극저온 장비
1992년에 설립된 HL 극저온 장비는 중국 Chengdu Holy Cryogenic Equipment Company의 계열 브랜드입니다.HL 극저온 장비는 고진공 단열 극저온 배관 시스템 및 관련 지원 장비의 설계 및 제조에 전념하고 있습니다.
자세한 내용은 공식 홈페이지를 방문해주세요.www.hlcryo.com, 또는 다음 주소로 이메일을 보내세요.info@cdholy.com.
게시 시간: 2021년 5월 6일